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金融界2025年7月4日消息，国家知识产权局信息显示，武汉中科先进材料科技有限公司申请一项名为“一种磁性微胶囊书写膜及其制备方法”的专利，公开号CN120248778A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本申请涉及书写技术领域，特别涉及一种磁性微胶囊书写膜及其制备方法。本申请提供的磁性微胶囊书写膜，包括透明基材层、粘合层以及具有保护作用的遮盖层；按质量百分比计，所述粘合层包括粘合剂10～40％、交联剂1～10％、光吸收剂3～8％、去离子水2～15％和磁性微胶囊45～70％。本申请的磁性微胶囊书写膜具有轻薄、高附着力、耐高温、耐高湿、耐光照、书写持久稳定性强的特点，可适用在不同场合不同环境下用于练字、涂写、记录等。
天眼查资料显示，武汉中科先进材料科技有限公司，成立于2018年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1357.16万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉中科先进材料科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目85次，财产线索方面有商标信息35条，专利信息248条，此外企业还拥有行政许可21个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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