北京
金融界2025年6月20日消息，国家知识产权局信息显示，浙江东柔新材料有限公司申请一项名为“表面保护膜、光学构件和电子构件”的专利，公开号CN120173544A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明公开了一种表面保护膜、光学构件和电子构件，属于保护膜技术领域，氨基甲酸酯系粘合剂组合物至少包括氨基甲酸酯预聚物和抗静电功能剂；抗静电功能剂由离子化合物和表面活性剂组成，离子化合物与表面活性剂的添加比例满足：2≤离子化合物/表面活性剂≤50；氨基甲酸酯预聚物由第一多元醇和有机聚异氰酸酯化合物反应得到，第一多元醇包括聚醚多元醇和聚酯多元醇，聚醚多元醇与聚酯多元醇的添加比例满足：5≤聚醚多元醇/聚酯多元醇≤50。本发明通过聚醚多元醇和聚酯多元醇的特定添加比例，解决了离子化合物析出的问题，并与离子化合物和表面活性剂的特定添加比例互相协同，最终实现了表面保护膜低剥离带电电压与低离子析出浓度的互相平衡。
天眼查资料显示，浙江东柔新材料有限公司，成立于2021年，位于嘉兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本7628.8889万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江东柔新材料有限公司参与招投标项目9次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息36条，此外企业还拥有行政许可8个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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