央视首次曝光！每台4亿美元重180吨，全世界最先进光刻机揭开面纱

4亿美元一台！全球最先进的光刻机，终于揭开了神秘面纱！

2025年5月27日，央视首次曝光了一个重达180吨的庞然大物：High-NA EUV极紫外光刻机。

这是全球最先进的光刻机，需要将其拆解成250多个集装箱、动用7架波音747才能完成运输。

这台光刻机吸引了全球的目光，各国都争先恐后预定，但也只有3家顶尖的芯片制造商拿到了首例。

那么，央视选择在这个时间报道它，究竟有什么深意？这台巨型光刻机，又有什么过人之处呢？

全球最先进的光刻机

如今，全球科技竞争的主战场，早就不是比谁设备像素高，谁速度运行快，而是转移到了芯片制造领域。

而芯片领域的核心竞争力，就是光刻机。

特别是极紫外（EUV）光刻机，堪称芯片制造的 “心脏”。谁掌握了它，谁就握住了高端芯片生产的命脉。

那么，此次曝光的号称全球最高端的：High-NA EUV极紫外光刻机，究竟有多厉害呢？

这么说吧，High-NA EUV极紫外光刻机，堪称芯片制造领域的 “超级神器”。

在芯片制造里，精度就是一切，更精细的电路图案意味，芯片可以容纳更多的晶体管。

而它最厉害的地方，就是利用仅有13.5纳米的极紫外光，把电路图案极其精准地“刻”在硅片上。

同时，它还能拥有更高的存储容量，就像把你的小仓库一下子扩容成了大仓库，能装下更多的信息。

在如今数字化时代，从我们日常使用的手机、电脑，到高端的超级计算机、人工智能服务器，再到汽车的自动驾驶系统等等，都离不开芯片。

可以说，有了High-NA EUV 极紫外光刻机，就能制造出更先进的芯片，让自家的科技产品性能更强大。

而如此高端的设备，也意味着，光刻机的核心技术也是“变态至极”。

光刻机背后的科技“争霸”

光刻机的制造，就像是在指甲盖大小的硅片上建造一座超级城市，要把数以亿计的晶体管精准地 “刻” 出来。

为了达到这种精度，光刻机的整个生产过程必须在真空环境下进行，稍有空气干扰，刻出来的图案就会 “变形”。

这不仅技术复杂，而且成本高得吓人，每一次研发和改进都要烧掉大量的资金。

由于光刻机的制作难度之高，而且卖得火爆，台积电、英特尔、三星这些芯片巨头们争得“你死我活”：

为了牢牢守住自己，在芯片代工领域的霸主地位，台积电大手一挥，砸下天文数字般的资金，一口气采购了几十台EUV光刻机。

英特尔也不甘示弱，四处奔走抢购先进光刻机，试图缩小与竞争对手的差距，重新夺回行业领先优势。

这看似是一场科技的“争霸”，实际上，在这背后还隐藏着更多原因......

荷兰的ASML公司，虽然是全球光刻机的龙头老大，但它的很多关键技术都受到美国的制约。

美国让它卖给谁，它就不得不卖给谁。

而在这过程中，美国为了维护自己在半导体领域的霸权地位，多次向荷兰施压，要求限制ASML向中国出口EUV光刻机。

2025年初，随着美国的政策进一步收紧，ASML对中国的订单也大幅减少。

我国芯片产业链上的企业人心惶惶，有的企业因为拿不到先进光刻机，生产计划被迫推迟。

面对外部的技术封锁与重重压力，中国并没有被吓倒，而是憋着一股劲，在光刻机产业链上发起了一场“攻坚战”。

中国光刻机“攻坚战”

在这场攻坚中，科技企业成为了冲锋在前的 “主力军”。

上海微电子作为国内唯一能够生产高端前道光刻机整机的厂商，扛起了国产光刻机发展的大旗。

科研团队在实验室里日夜奋战，在光刻机的光学系统调试上，哪怕是0.01毫米的误差，都可能导致光刻图案的偏差.

所以，团队成员们需要反复调整、测试，常常为了一个参数的优化争论到深夜。

而在机械传动系统的研发中，要实现纳米级的精准定位，研发人员不断尝试新的材料和工艺，经历了数百次的失败，才找到最合适的解决方案。

经过无数次的试验与改进，如今，他们生产的90nm光刻机已经实现了量产。

但上海微电子并没有满足于此，他们正全力冲刺28nm技术，朝着更先进的“车型”发起挑战。

除了整机制造，我国在关键材料的突破同样至关重要。

光刻胶作为芯片制造的 “关键墨水”，其性能直接决定了芯片的精度和质量。

我国晶瑞电材经过长期的埋头钻研，成功研发出7nm光刻胶，成功打破了国外在高端光刻胶领域的长期垄断。

而南大光电的ArF光刻胶，在实际生产线上进行反复测试和验证后，也顺利通过认证。意味着，国产光刻胶在技术质量上得到了认可。

在技术研发的道路上，中国科研人员也不断传来好消息。

中科院采用新型晶体放大器技术，成功实现了全固态深紫外光源技术突破。

这一技术改进让设备体积大大缩小，能耗也降低了不少，节省了空间和成本。

更重要的是，从理论上来说，这项技术能够支持3nm芯片的制造。

当然，中国光刻机产业链的突破离不开政策的大力支持。

早在2020年，我国就出台了一系列政策：

鼓励企业加大研发投入，支持高校和科研院所开展相关研究，还为产业发展提供资金、人才等多方面的支持。

高校和科研院所积极响应，比如哈工大，凭借自身强大的科研实力，研发出了先进光源技术。

此外，中国在光刻机领域，还有着长远的目标和清晰的规划：

计划在2030年研制出EUV样机，中国还积极探索量子计算、异构架构等新赛道。

而且，中国深知完整产业链的重要性，在EDA设计工具、IP核等配套领域持续发力，让中国的芯片产业真正实现独立自主、蓬勃发展。

此次央视曝光相关设备，其实就是在向全世界揭露美国那种不合理的做法，告诉大家美国的禁令根本没有任何正当理由，纯粹是为了遏制中国科技企业的发展。

这也让越来越多的人看清了美国在科技竞争背后的政治操弄，同时也激发了中国在芯片领域自主创新的决心。

信息来源：本文信源来自权威报道【央视网】等（详细信源附在文章末尾）。为提升文章可读性，细节可能存在润色，请理智阅读，仅供参考！