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金融界2025年6月11日消息，国家知识产权局信息显示，塞特拉系统有限责任公司申请一项名为“包括污染物屏蔽件的真空压力传感器”的专利，公开号CN120121208A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，一种真空压力传感器，包括形成电容结构的电极和隔膜。该传感器进一步包括壳体，该壳体限定出传感器腔并且包括支撑结构，该支撑结构被构造成将电容结构支撑在传感器腔内。隔膜位于隔膜平面中并且电极在隔膜平面的第一侧上大致上平行于隔膜延伸。壳体进一步包括入口，该入口被设置在隔膜平面的第二侧上并且被构造成与受测量的环境流体连通。传感器进一步包括设置在传感器腔中在入口与电容结构之间的污染物屏蔽件，其中该污染物屏蔽件被构造成提供从入口到隔膜的至少一个流体连通路径，并且其中该至少一个流体连通路径中的每个跨过隔膜平面至少两次。
本文源自：金融界
作者：情报员
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