北京
分享至
金融界2025年5月30日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司取得一项名为“反射器制造方法及相关的反射器”的专利，授权公告号CN113474880B，申请日期为2020年01月。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
