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金融界2025年5月23日消息，国家知识产权局信息显示，迪美过滤有限公司申请一项名为“用于过滤隔片的光学成像的装置及配备该装置的过滤设备”的专利，公开号CN120035458A，申请日期为2023年09月。
专利摘要显示，本发明描述了一种用于过滤隔片(S)的光学成像的装置(100)，包括支撑框架(105)，在该支撑框架上安装有以下部件：至少一个镜子(135)，其具有反射表面(140)；至少一个相机(145)，其具有光轴(A)，该光轴(A)适于以直角以外的入射角与所述反射表面(140)相交，产生倾斜的且不与光轴(A)自身重合的反射光轴(B)；以及至少一个照明设备(150)，其适于照明反射光轴(B)上与反射表面(140)间隔开的至少一个点。
本文源自：金融界
作者：情报员
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