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4月3日消息，近日ASML宣布，计划在日本将其先进的极紫外光刻机的员工人数扩增5倍！
ASML的EUV技术被认为是制造下一代高性能芯片的核心。随着全球对高性能芯片需求的快速增长，ASML的扩张不仅能提升其在日本的业务能力，还将助力日本半导体产业的技术升级与人才培养。
与此同时，日本本土半导体企业Rapidus正计划启动2纳米工艺的试产，预计本月开始，并力求在2027年前实现全面量产。
为了适应日本不断增加的 EUV 设备数量，ASML 将在 2027 年前将日本维护人员规模增加到 100 人。
芯片制造涉及数百至上千道工序。如果设备在光刻阶段停止工作，则大多数工序都需要停止。ASML 估计，EUV 设备意外停机每分钟将造成数千美元的机会损失。维修团队需要全天候驻扎在客户工厂附近。
ASML的这一举措不仅是对其业务的扩展，也是对日本市场的信心表现，预示着未来在半导体技术方面的更多合作与发展机会。
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