北京
金融界2025年1月25日消息，国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司申请一项名为“一种抛光垫修整器、抛光垫及硅片”的专利，公开号CN 119347649 A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本公开提供一种抛光垫修整器、抛光垫及硅片，所述抛光垫修整器包括修整器本体，所述修整器本体具有用于对抛光垫的表面进行修整的修整面，所述修整面上具有修整区，所述修整区被构造为具有磨粒；其中所述修整区包括若干子修整区，且若干所述子修整区沿着所述修整面的周向依次间隔分布，且所述修整区在所述修整面上的总面积占比为10～30％。本公开提供的抛光垫修整器、抛光垫及硅片可提高修整后的抛光垫的均匀性和平整性进而使得抛光垫在对硅片进行抛光加工过程中作用到硅片上的力更为均匀，以改善硅片边缘平坦度。
天眼查资料显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司，成立于2016年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本350000万人民币，实缴资本350000万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟材料科技股份有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目3次，专利信息1093条，此外企业还拥有行政许可24个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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