上海
分享至
【集成电路布图设计保护条例修改草案公开征求意见】财联社12月26日电，为完善集成电路布图设计保护制度，国家知识产权局就《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》公开征求意见。意见稿指出，完善登记注册和确权程序，强化知识产权源头保护。加强布图设计专有权保护，维护权利人合法权益。新增独创性声明相关制度以及专有权保护范围的确定规则。促进布图设计实施和运用，助推新质生产力发展。新增职务创作中的奖酬措施。
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
