美国为了彻底堵上中国芯片产业的出路,把荷兰当成了重要的“盟友”,并通过自身影响力多次施压,要求其一起加入限制对华出口半导体设备的阵营。但考虑到ASM的利益,荷兰方面起初是拒绝的。
可没想到好景不长,刚进入2023年,美、日、荷三国就达成了三方协议。继日本宣布于春季开始实施对华出口半导体设备管制措施后,荷兰方面近期也已正式确认,将限制部分DUV光刻机的出货,可以说是直接“撕破脸”了。
虽然ASML极力解释,表示三方协议所限制的是NXT:2000i以及以上更先进型号的DUV光刻机,单次分辨率为38nm的NXT:1950Di光刻机不受限制,未来仍可向大陆芯片企业出货。
但鉴于荷兰方面一再向老美妥协的态度,国内市场一致认为不能再抱有幻想了,毕竟“美帝主义亡我之心未死”,一旦老美再次扩大限制范围,没有谁能保证荷兰方面不会再次对我国半导体“重拳出击”。
就在近日,针对荷兰在光刻机方面的限制行为,中方强硬表态: 不预期反制措施,但对此不会忍气吞声,如果别无选择,中国将会尝试自主制造该类产品设备。
值得强调的是,自从遭遇美芯“卡脖”以来,国内对光刻机的研发工作就一直在有条不紊的进行,现阶段已实现了90nm国产光刻机的量产。
还有应用于45nm-22nm制程的Arf浸润式光刻机,上海微电子等厂商也正在加速推进,目前已进入了客户验证阶段,一旦迎来落地,将会迅速对ASML的部分DUV光刻机实现国产化替代。
对于荷兰而言,这样的结果可谓得不偿失。中国拥有着全球最大的芯片消费市场,荷兰原本可以通过光刻机等半导体设备的大规模出口来提升自身经济,ASML的营收利润也能更上一层楼。
可它却盲目的跟随老美的脚步,亲手毁了这一切,还把ASML推向了“万丈深渊”。对于老美断供DUV光刻机的举动,ASML首席官Peter曾多次发出警告,物理规则在中国同样有效,不把光刻机卖给他们,一旦中国完全掌握了该技术,ASML未来或将会面临破产风险。
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