ASML已经官宣，美情报局也发声，外媒：国产芯片局面彻底变了

美一直都在修改芯片规则，限制国内厂商在芯片半导体方面发展，如今看来，美再努力都是徒劳，国产芯片的局面将彻底改变。

从2019年开始，美先是通过瓦森纳协定限制ASML出货最先进的EUV光刻机，导致国内厂商全款订购的设备至今没有到货。

华为5G等技术领先后，美就开始限制美企业出货，像高通、谷歌、英伟达等，甚至还限制台积电等采用美技术的芯片企业。

数据显示，美大约限制超4000家企业出货，很多国内厂商也被美列入所谓的实体清单，用任正非的话，美就是希望华为死掉。

但经过三年的努力，华为活下来了，2023年将会更有质量地活下去。

结果美坐不住了，进一步修改规则，不仅限制高通等向华为出货4G芯片等产品，还通过三方协议限制先进光刻机等设备的出口。

消息称，美变本加厉的修改芯片规则，目的就是想全面切断14nm以下工艺。

意外的是，三方协议内容公开后，ASML通过官网表示，仅仅是2000i及后续型号的DUV光刻机不能出货，1980Di型号的DUV光刻机仍可以自由出货。

另外，该光刻机单次曝光精度为38nm,在多重曝光工艺下，可以将芯片制程缩小至7nm。

也就是说，ASML继续向国内出货的光刻机完全可以满足国产芯片的发展需求。

关键是，美情报局也发声了，美欲切断14nm以下工艺的芯片，这必然会促使中国厂商在成熟工艺方面成为全球主导。

要知道，目前全球紧缺的是成熟工艺芯片，绝大多数芯片需求也是成熟工艺，国内厂商在加速扩大成熟工艺的芯片产能，这已经无法阻挡。

而且，中芯国际等国内厂商早就表示，28nm等工艺芯片的风险进一步降低，已经量产的芯片中，敢于同国际大厂相比较。

再加上，比尔盖茨也表示，美是不可能阻止中国拥有强大性能的芯片。

所以就有外媒表示国产芯局面彻底变了，美想阻止国产芯崛起是不可能的事情。

首先，ASML继续向国内出货光刻机，在多重曝光工艺下，可以将芯片制程缩小至7nm,而国内厂商已经完成7nm工艺的开发任务，还小规模试产了类似7nm的N+1工艺的芯片。

另外，华为已经明确表示今年全面验证国产化14nm工艺，上海微电子28nm精度的光刻机也取得了技术验证，像倒片机、蚀刻机等设备，最高都突破到了5nm。

其次，中芯国际是全球扩大成熟工艺芯片产能最多的厂商，良品率也达到了世界领先水准，这意味着中芯国际必然会通过成熟工艺实现进一步跨越。

美情报局都表示中国将会成为成熟工艺芯片成为主导，中芯国际又是产能最大的厂商，这将会给中芯国际带来更多营收和利润，从而促进更先进工艺的研发。

要知道，台积电是凭借智能手机的红利快速崛起，魏哲家表示新能源汽车给成熟芯工艺芯片带来了巨大的机遇，比智能手机机遇还大。

而中芯国际在成熟工艺芯片方面扩产最早，扩产产能又是最大，良品率也达到了世界领先水准，自然也会凭借该机遇快速崛起