引爆，美日荷签订“三方协议”，ASML公司“反水”

为了限制“中国芯”的崛起，打压华为等中企，在过去的几年里，老美一直在挖空心思限制ASML公司对我国光刻机的出口。

众所周知，光刻机是制造芯片所有设备中最核心的设备，目前世界上只有荷兰ASML公司、日本尼康、上海微电子等几家半导体企业能够制造出光刻机，而高端光刻机市场被ASML公司垄断。

中芯国际在五年前与ASML公司签订了一台EUV光刻机采购协议，并全额支付了货款12亿美元，约定ASML公司在第二年交付EUV光刻机，在第三年帮助中芯国际完成安装调试，但受老美“出口禁令”的影响，中芯国际至今仍未收到EUV光刻机。

中国是世界上最大的半导体市场，ASML公司虽然未能向中企出口EUV光刻机，但其向中企出售的DUV光刻机，给“中国芯”的发展提供了很大的帮助，这引起了老美的不满。

几个月前，老美多次游说日、荷，要求它们加强对我国的技术出口管控，并在近日签订了三方协议，扩大限制光刻机对中企的出口范围。

据媒体报道的信息显示，“三方协议”签订后，日本从今年春季开始加强相关半导体技术的出口管控，荷兰则在今年夏季开始。

然而，让所有人没想到的是，“三方协议”刚刚签订，美日荷还未开香槟庆祝之际，ASML公司突然反水！

日前，ASML公司通过官网正式对外宣布，2000i及后续型号的光刻机出口需要通过荷兰政府的审核，1980Di及以前型号的DUV光刻机，公司具有绝对的自主销售权，并不影响与中企的合作。

1980Di DUV光刻机的曝光精度虽然只有38nm，但经过多重曝光工艺后，精度能够达到惊人的7nm。

ASML公司的官宣，引爆了科技界，迅速引起了广泛的关注与讨论，多家美媒发文表示：“三方协议”还未生效就已夭折，“中国芯”的崛起势不可当！

正如美媒所言，中芯国际等国内芯片制造企业，完全可以利用1980Di DUV光刻机造出7nm及以上制程工艺的芯片，且在不久的将来，也可以造出7nm及以下制程的芯片，因为国产EUV光刻机取得了重大技术突破。

据相关信息显示，中科院、清华等科研机构已经掌握了大量EUV光刻机核心技术，用不了多久，就能掌握所有的EUV光刻机技术，ASML公司CEO曾在科技大会上的警告就是最好的证明：如果不将EUV光刻机卖给中企，五年之后，中国人就会掌握所有的EUV光刻机技术。

EUV光刻机是全人类智慧的结晶，十万件元器件来自于全球35个国家的5000多家企业，但也不是神造的，中国人完全可以凭借自己的智慧克服所有困难，研制出属于我们自己的EUV光刻机。

另外，在下一代量子芯片领域，我国处于绝对的世界领先地位，国内首条量子芯片生产线将在明年实现量产，届时，芯片卡脖子的问题将迎刃而解。

江老曾说过，中国人是不可战胜的！确实，无论是过去，还是现在，亦或是未来，中国人都是不可战胜的，老美的芯片封锁只会是搬起石头砸自己的脚！