国产光刻机即将试运行！ASML没料到，上海微电子默默努力

光刻机巨头ASML之前并不知名，即使做出了领先的光刻机，还超过了曾经的光刻机巨头日本尼康和佳能。因为光刻机属于半导体产业链上游，主要面向晶圆制造厂。

如果不是被美方限制给中企出货，恐怕也不会这么受到关注。相比ASML，我国上海微电子的存在感更低了。不过有消息传来，ASML没料到，国产光刻机即将试运行！

芯片起源于美国，光刻机也不例外，美企GCA最早推出了光刻机，上世纪80年代以前光刻机市场是美系的天下，尼康一直在为美企GCA提供光刻机配套的光学镜头。

尼康从中积累了一定的光刻机制作技术，随着日本半导体行业的崛起，尼康和佳能都成了光刻机巨头，上世纪80年代到本世纪初两家称霸光刻机市场，GCA没落消失。

不过，令尼康和佳能没有想到的是，后来竟然被不太知名的荷兰的ASML给超越了。

ASML于2004年研发出领先的ArF浸没式DUV光刻机，之后又推出了更领先的EUV光刻机，因此开始迅速发展成为新霸主，占据了全球光刻机市场80%左右的份额。

ASML不仅独家供应高端EUV光刻机，连中端DUV光刻机都占据了大部分份额，其中ArFi浸没式出货量占96%，ArF干式光刻机占88%，而尼康的DUV 出货量非常少。

佳能如今也只能出货KrF和i-Line等低端光刻机，水平其实还不如我国上海微电子。

我国上海微电子虽然在光刻机方面差距较大，但也是全球能够生产前道光刻机的四大厂商之一，并且后道封测光刻机做得不错，国内占据80%份额，全球也占40%。

差距主要在芯片制造用的前道光刻机，不过从官网可以看出，上海微电子能够生产ArF、KrF和i-Line这些光刻机。上海微电子能够生产ArF，这方面已经比日本佳能强了。

并且ArF最高制程达到90nm，通过两次曝光可做出45nm，三次曝光最高达22nm。

虽然多层曝光技术如今已经相对成熟，但量产的可能性不大。因为曝光次数越多，芯片良率也就越低，成本也就越高。因此，一般不会多次使用曝光，通过使用两次。

尽管上海微电子已经能做出90nm的ArF光刻机，但却一直没有传出企业使用并量产的消息。更多的是，只是生产出来了，但没有进入产线，这类消息一直不断传出。

然而，近日有网友爆料，上海微电子的国产光刻机已进入产线，准备通电试运行。

这次网友发布爆料消息时配了一张图，上边显示的是燕东科技的芯片制造设备采购列表，其中第7项是采购光刻机，供应商为上海微电子，采购时间是2021年11月。

经查询，采购光刻机的公司为北京燕东微电子，是一家专业化的集成电路设计、制造、销售于一体的高科技企业。该公司有6英寸和8英寸产线，正在建设12英寸产线。

这个12英寸产线目标是量产65nm制程，因此采购的光刻机就是90nm ArF光刻机。

该产线的名称为《基于成套国产装备的特色工艺12吋集成电路生产线项目》，目标就是要打造中国首条国产自主可控的芯片生产线，所以采购的关键设备均是国产设备。

项目1期的计划是2023年4月试生产，就是下个月。据网友信息显示，该产线没有逾期，准备通电试运行。燕东微也表示，12英寸产线正常推进，预计下个月通电生产。

这样的话，也说明上海微电子光刻机也将通电试运行，也就是90nm的 ArF光刻机。

具体情况如何，目前不能完全确定，还要看官方的正式消息。不过，从网友传出的消息和查询的情况来看，可以说明国产光刻机还在推进，上海微电子也在默默努力。

因为光刻机从生产出来，到验收通过，再到产线运行，这需要很长的验证时间，不断解决问题，实现量产才算成功。在此之前一般不会公开消息，只会默默努力推进！

另外 ，上海微电子还在攻坚28nm浸没式光刻机，ASML恐怕没料到进展会这么快。