EDA工具全面国产化，美国以EDA限制中国芯片的图谋彻底破灭

《第一财经》报道指华为芯片业务部门联合国内EDA企业，打造了一批国产EDA工具，在14纳米工艺以上已全数以国产EDA工具替代，这打破了美国以EDA工具遏制中国芯片发展的图谋。

《第一财经》报道指华为公司“难题揭榜”火花奖专家座谈会上，华为创始人强调在过去三年时间已完成13000颗器件的替代开发，由此在芯片国产化方面取得了重大进展，而随后华为轮值董事长徐直军指出华为海思已在更深层次展开芯片开发过程国产化。

徐直军指出华为海思环绕着硬件开发、芯片开发等方面积极寻求以国产开发工具替代，已实现了78款工具的国产替代，其中之一就是EDA，EDA工具是芯片开发的重要工具，芯片设计企业以EDA工具开发芯片设计图，设计图交给芯片代工厂后，芯片代工厂再以同样的EDA工具解释交给光刻机等设备，如此芯片才能生产出来。

此前全球EDA工具主要由美国提供，美国三大EDA企业Cadence、Synopsys、Mentor Graphics占据全球EDA市场近八成的市场份额，美国此前正是试图依靠EDA工具的垄断优势，限制美国EDA企业为中国提供相关的EDA软件遏制中国芯片的发展。

如今华为全面采用国产EDA工具替代美国EDA，证明国产EDA工具已具有足够的实力，可以满足芯片设计的需求，凸显出国产EDA工具的快速发展；而且这不仅仅是芯片设计企业大举采用国产EDA工具，还推动着芯片制造企业采用国产EDA工具，据业界人士指出三星、台积电都已大举采用中国的EDA工具软件，显示出中国EDA工具开始走向世界。

EDA工具只是中国芯片取得突破的一个缩影，这几年美国所采取的每个措施，中国都迅速采取相应的措施应对。美国限制美国芯片为中国供应射频芯片、模拟芯片、GPU芯片，中国就迅速研发出相应的芯片，以国产芯片替代。

美国拉拢日本、荷兰限制对中国供应光刻机、光刻胶等芯片设备和材料，中国芯片设备行业就积极推进国产光刻机、光刻胶替代，据称芯片制造八大环节，国产芯片已在七大环节突破到14纳米，刻蚀机、光刻胶都进展到5纳米，光刻机虽然仍然面临困难，但是预计一两年内就能进展到28纳米乃至14纳米。

如今加上EDA工具，国产芯片产业链已基本上形成了完整的芯片产业链，在全球诸多经济体中，中国应该是唯一一个拥有完善芯片产业链的经济体，实现了芯片设计、芯片制造的自主化，凸显出中国芯片行业的扎实基础。

可以说这几年美国的做法激发了中国芯片行业的巨大潜力，中国芯片行业群策群力，发挥各自的优势，形成合力，最终打造了如今完善的产业链。由于中国的产业链发展，也让美国芯片行业做出了不同的选择，NVIDIA、新思科技、泛林集团等纷纷为中国定制芯片产品，绕开美国的限制，确保从中国市场获得收入。

美国富豪比尔盖茨一再强调美国的做法无法阻挡中国开发强大的芯片，如今中国芯片取得的成绩印证了这一点；随着中国芯片的发展，美国芯片已蒙受了巨大的损失，Intel、美光陷入亏损，诸多美国芯片企业营收下滑，导致它们在2022年损失了1.8万亿美元市值，可以说美国真的是搬起石头砸自己的脚。