ASML和台积电突然都翻脸了，结果有点大跌眼镜

芯片已经是当下最重要的元器件，美一直都在芯片方面封锁技术，防止被其他国家超越。

华为5G技术领先后，美就要求本土运营商和盟国放弃华为5G设备和技术，华为发布巴龙5000等5G双模芯片后，打破了高通在通讯芯片方面的领先优势。

美就开始修改芯片规则，限制高通等美企向华为出货，随后还限制台积电等芯片制造企业出货，甚至还对ASML等先进光刻机厂商进行限制。

无论是台积电还是ASML，都明确反对美修改芯片规则，也反对限制厂商出货，称这不仅会破坏全球芯片贸易，加速各国发展本土芯片制造技术，甚至会影响芯片技术发展。

即便如此，美仍执意修改芯片规则，不仅进一步约束高通、ASML等出货，还与日荷签订了三方协议，进一步限制半导体设备出货。

面对这样的情况，ASML和台积电突然都翻脸了，但结果有点大跌眼镜。

首先是ASML方面。

三方协议签订后，日方面就表示将会从今年春季开始限制相关设备出货，荷兰也表示，将会从今年夏季开始，配合美进行相关半导体设备的出口管制。

这意味着ASML研发制造的DUV光刻机等设备也将进一步受到约束。

但ASML却通过官网表示，荷兰方面限制先进半导体设备出货，并非全部设备，主要是型号为2000i及以后的DUV光刻机，这些产品是EUV光刻机的过渡机型。

但型号为1980Di型号的DUV光刻机仍可以出货，其单次曝光精度为38nm，能够满足国内厂商发展的需求。

因为该光刻机在多重曝光工艺下，可以将芯片制程缩小到7nm,台积电当年就是采用该光刻机量产了第一代7nm芯片。

要知道，国内厂商已经掌握了多重曝光工艺，并且用该工艺量产了14nm、N+1等工艺的芯片，更何况，国内厂商已经完成了7nm工艺的研发任务。

其次是台积电。

芯片规则修改后，张忠谋一直与美唱反调，不仅表示美修改规则破坏全球芯片贸易，还称美连续投资超500亿美元也不可能打造出来完整的芯片产业链。

关键是，张忠谋公开表示美想通过补贴打造一个强大的芯片制造业，这无疑是一个天真的想法，并称台积电在美建厂也必败。

但如今，张忠谋突然翻脸了，在接受采访时表示支持美对国内发动芯战，还称国内芯制造技术落后台积电5年以上。

对于张忠谋这突如其的翻脸，但ASML却逆势而上，表示继续出货部分型号的DUV光刻机，就有外媒表示这结果真是大跌眼镜。

因为张忠谋一直都是与美唱反调，结果突然态度大变，还是在美宣布凡是想获得超1.5亿美元补贴的企业就需要贡献不超过75%的利润后，看来张忠谋还是将利益放在第一位。

更何况，台积电已经在美投资400亿美元建厂，此时一边倒显然是为了获得更多补贴，也是为了获得更多的芯片订单。