在芯片规则的不断升级下，老美的目标直指“锁死”中企的14nm工艺，中断美企供货之外，还不断的施压日本、荷兰达成“三方协议”，试图全面阻止光刻设备的出口。
奇怪的是，三个国家早就达成了协议，却迟迟没有公布任何的官宣消息，市面上的“传言”，也都是由ASML、日企“深挖”出来的，这也让三方协议带着些许的“神秘感”，营造出一种“和谐”的局面。
就在近日，荷兰率先打破了沉寂，其表态：“已经决定加强对中国半导体设备的出口限制，预计在今年夏天实施！”“神秘”的三方协议正式被确认了，这是否会直接影响到全球半导体格局呢？
ASML紧急表态、中芯国际紧跟其后
从去年12月底开始，拜登团队就有意加速“芯片规则”的实施，试图全面阻止中企获取芯片，彭博社就曾爆料：“美国试图全面阻止美企供应商合作华为，特别提及了高通、英特尔，且涉及的范围涵盖了4G、WiFi、高性能计算机等等！”
随后在一月份美日荷传出达成“三方协议”，最初的消息是由ASML提供的，只说明了是关乎光刻设备出货新规的，对于一些细节并没有告知，但随后“协议内容”被日企给挖出来了，将会涉及到“售后服务限制”的问题。
而这“售后服务”自然涉及到了已经出售的设备，根据日企爆料的内容，新规将干涉ASML、尼康以及佳能的“运维人员”奔赴中国市场，这对于几家企业来说无异于“晴天霹雳”，相当于光刻机变成了“一锤子”买卖，这显然是比不能出货更加“难受”的。
高度依赖中国市场的ASML，在整个过程中也是想尽办法稳住中企客户，在三方协议刚传出时，选择了直接公之于众，并表态：“不会影响2023年营收，且中国市场营收将突破22亿欧元！”
ASML想要表达的意思也很明确，就是在说明用于成熟工艺的DUV设备是可以正常出货的，在日本曝光了细则之后，ASML则强调：“限制范围并不包括成熟工艺制造设备！”
一切的解释都是“苍白无力”的，因为最终的“解释权”在老美手上，就在3月8号，荷兰的态度正式确认了，三方协议的“神秘面纱”就此被揭开了。
荷兰明确表态：“已经决定跟进对于中国半导体芯片制造设备的限制，先进的芯片制造技术将会成为出口管制的着重点，包括浸润式光刻系统，还特别强调了新规将会在夏天实施。”
在这样的“答案”给出之后，一切也就有了定论，ASML也无法保持淡定了，紧急回应：“新规限制的不完全包含浸润式光刻系统，只是涉及到了所谓的“先进”浸润式光刻设备，ASML先进程度较低的浸润式光刻设备，已经能够很好的满足成熟公益需求的客户。”
而在整个的回应过程中，我们明里暗里都能听出，这是讲给中企客户听的，刚刚签订11亿美元供货合同的中芯国际，也回应了这样的发声，表态：“公司在生产经营方面一切正常，并没有收到任何的通知。”
新规带来的影响
根据此前外界的消息看来，美日荷升级出货协议，针对的就是DUV光刻机的出货，但实际上DUV光刻设备也分先进程度的，按照光源主要可划分为KrF、ArF、ArFi。
其中最先进的是ArFi，也就是新规所提及的浸润式光刻机，但其中有很多的型号，在AMSL的声明中NXT：2000i及更先进的将会被限制，也就意味着能够正常出货的就只有NXT:1980Di的型号。
ASML随即也对该款机型做出解释，NXT:1980Di主要用于38nm及以下的工艺制造，对于中芯国际而言是有点牵强了，但对于国内大部分厂商还是有用的，但如果通过多重的曝光，也是能够用于28nm以及14nm芯片生产的。
中芯国际目前最高的制程容易为14nm，NXT:1980Di可以在“过渡期”内起作用，等到国产的28nm光刻机诞生之后，一切的危机也就解除了，显然只有实现技术的完全自主化，才能够彻底的摆脱欧美的束缚，对此你们是怎么看的？
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
