国产设备迎来逆袭，中企新订购的4台新设备，均来自于上海微电子

光刻机是制造芯片的核心设备，能够制造的厂商现阶段有不少，但能够满足市场芯片制造需求的，却只有ASML一家企业，特别是用于14nm以下工艺的EUV光刻机，ASML则完全垄断了全球市场。

在相关限制的困扰下，国内加速了对于光刻机的研发，除了中科院突破了不少技术之外，一些优秀的中企，已经成功掌握了相应的组装工艺，而上海微电子就是一个突出的代表。

上海微电子已经能够完成90nm工艺的光刻机组装，在国内的成熟芯片市场，占据了大部分的市场份额，同样在先进光刻机的研发上，也实现了实质性的突破。

毕竟EUV光刻机的制造，需要用到超10万个零部件，分别来源于超过20多个国家的技术供应，这些技术都是他们最顶尖的，想要获取肯定有一定的交换条件，因此想要实现EUV光刻机的制造并不简单。

ASML独享产能

近日上海的积塔半导体在积极采购半导体设备，后续将会在特色工艺生产线上持续发力，用于模拟电路、功率器件等等芯片上的生产。

ASML给拿走了，本身这是相对正常的事情，但经过事件进行分析之后，我们发现国内的上海微电子也具备订购设备的制造能力。

此次上海积塔订购的是ArF、KrF、i-line系列光源光刻机，并非是DUV光刻机，而这些设备上海微电子很早之前就完成了突破，都在呼吁要支持国产设备的发展，为何这一次却要反其道而行呢？

经过专业人士进行分析之后，也得出了相对应的答案，目前上海微电子的光刻机精度仅为90nm，但是和ASML更先进的工艺，在价格上却相差不是很大，但在成品率、相关性能的表现上，却有着很大的差距。

国产设备迎来反转

目前最新的消息已经传出了，看来我们是误会了，虽然没有选择上海微电子的光刻机，积塔半导体却把工艺检测设备的需求，全部留给了上海微电子，总订购数量达到了4台。

这也是唯一一家中标的工艺检测设备厂商，在有了ASML的订单掺杂之后，也很好地证明了，这是依靠上海微电子自身的实力所获取的订单，这对国产供应链来说是具备有重大意义的。

而这种工艺检测设备，主要是用于最终的封装测试阶段，目的是为了更好的控制残次品，从而提升芯片制造过程中的良品率，虽然此类设备研发起来并不费劲，但却也是芯片制造过程中缺一不可的设备。

为了提升良品率，ASML多年以来做足了努力，不仅在光刻设备上拥有着顶尖的技术，同样在检测设备上，也拥有着最顶尖的技术，然而这一次积塔半导体，却顶着这方面的压力选择了上海微电子的设备。

“信任”的开始。

上海微电子持续发力

上海微电子的技术实力毋庸置疑，但最终要想证明自己，还是要在先进光刻机上发力，毕竟一项很多设备厂商都拥有的技术，还不足以建立起足够的竞争优势，如果能够实现对于先进光刻机的突破，地位才算真正的建立起来了。

而上海微电子也还算争气，在很早之前就传出了28nmDUV光刻机的消息，可以提供给10nm及以上芯片制造，在相应的性能表现上甚至不输于ASML得DUV光刻机，同样采用的也是极紫外光源。

但在相关限制到来之后，这样的计划似乎也被放缓了，至今都没有传出要出货光刻机的消息，很可能就是是在授权美技术上被卡住了，但随着国内的核心技术不断突破，相信很快就能够实现光源技术等等的国产化。

因此距离光刻机真正的国产化已经不远了，如果能够完成对于10nm工艺的芯片制造，基本上能够满足国内超过90%以上的需求了，届时再利用了类似于“芯片堆叠”等等特殊工艺，相信是能够实现不亚于5nm芯片的性能表现的。

尽自己所能去支持国产设备，才是最正确的选择，企业本身就是为了利益而存在的，让他们牺牲自己去成全国产设备，显然也不太符合市场发展需求，对此你们是怎么看的呢？