4月20日，拓荆科技股份有限公司（688072）正式登陆上海证券交易所科创板。
作为高端半导体专用设备企业，拓荆科技一直秉持自主创新发展，凭借一系列独创性的设计，完善的知识产权体系，以及达到国际先进水平的核心技术，公司已在国际市场展露头脚。拓荆科技表示，此次发行上市，是公司发展史上的一个重要里程碑，公司将借助资本市场这一平台，全面提升公司综合实力和公司价值，实现投资者利益最大化。
国产替代化浪潮，有望比肩国际寡头
拓荆科技成立于2010年4月，是我国高端半导体设备的领军企业。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成晶圆制造三大核心设备，也是目前国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商。
依靠核心技术，拓荆科技一举突破欧美及日本企业对同类产品的长期垄断，实现了集成电路领域核心设备的自主可控，增强了我国集成电路产业供应链的自主可控能力。
目前，拓荆科技的产品已广泛应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，在不同种类芯片制造产线的多道工艺中得到商业化应用，同时公司已展开10nm及以下制程产品验证测试，公司在研产品已发往国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发。
在国产替代化浪潮下，拓荆科技凭借已达到国际先进水平的研发及产业化核心技术，有望率先受益，并成为比肩国际寡头的企业之一。
国家顶层助力，专注研发打破技术垄断
在半导体设备领域，拓荆科技是各方资金关注青睐的重要企业。国家集成电路基金、国投上海等先后成为拓荆科技的重要股东。
依托行业政策利好，以及巨大的市场空间，拓荆科技不断投入研发、吸引半导体人才，逐步补齐半导体制造端的短板。2018年-2021年9月，拓荆科技分别投入研发投入10,797.31万元、7,431.8万元、12,278.18万元和12,955.63万元，分别占各期营业收入的152.84%、29.58%、28.19%和34.65%。据悉，拓荆科技已建成了我国首个半导体薄膜设备生产基地，总建筑面积40，000平方米，包括研发及生产用十级，百级和千级无尘洁净间。
凭借长期的技术研发和工艺积累，拓荆科技成为较早打破国际巨头技术垄断局面的企业。公司100%自主知识产权研制的PECVD设备，是国内唯一能够应用于大规模集成电路生产线的12英寸全自动PEVCD设备，已用于28nm的集成电路的批量生产，同时具有14-10nm的技术的延展性，产品性能指标表现达到了世界先进水平。
募集资金提高技术研发投入，助力产业链发展
拓荆科技作为自主创新的半导体设备供应商，为进一步提高技术先进性，丰富设备种类，拓展技术应用领域，提升市场占有率，开发台湾市场，公司拟借助资本力量，募集资金用于高端半导体设备扩产、先进半导体设备的技术研发与改进，以及ALD设备研发与产业化等项目。
按照发展规划，公司将开展配适10nm以下制程的PECVD产品研发；开发Thermal ALD 和大腔室PE ALD；同时升级SACVD设备，研发12英寸满足28nm以下制程工艺需要的SACVD设备。
在加强产品技术研发的同时，拓荆科技还将逐步培养和完善国内相关产业链。通过与国内供应商的深度合作与磨合，推动设备关键部件的国产化开发及验证，提高设备零部件的国产化率。此外，公司还将利用国产设备厂商的综合优势，为客户提供定向的技术开发与服务，以此助力半导体产业链发展，保障产业链的技术先进性。（燕云）
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
