最近7家在2021年的“2021年中国国际半导体展”上，接受媒体调查的中国主要半导体设备制造商承认，他们的主力产品只能用来生产14或28纳米芯片，落后海外对手2到3个世代。这些中国厂商表示，美国对中国进行出口管制，已阻碍他们从国外采购零组件和材料，并说用国内生产的零组件和材料取代外国进口，已导致他们的产品良率偏低。
上海微电子装备公司（SMEE）一名工程师表示：“我们主力的光刻机是90纳米，我们的28纳米和14纳米光刻机就良品率还有改善空间。”SMEE是中国唯一一家实现光刻机商用化的半导体设备制造商。尽管微影机的制造难度极高，全球最大制造商荷兰ASML预料将开发出商用3纳米和2纳米光刻机。
媒体共访问超过20家中国半导体设备制造商，仅7家有所回应。这些受访厂商坦承，在开发先进半导体制程设备上已经受到延误。在蚀刻技术具有优势的中微半导体设备公司（AMEC）一名研究员表示：“我们能供应5纳米制程的机器，但现在只供应14纳米和28纳米制程。”另一蚀刻机制造商北京屹唐半导体科技公司，主要生产40纳米机台和部分28纳米机台。
在7家受访的厂商中，仅AMEC已成功开发5纳米技术，其他厂商表示，仅生产14纳米或更老旧的产品。美国对中国进行出口管制，是导致中国半导体业者提升先进制程的速度放缓主因。SMEE上述工程师表示：“当我们无法取得一种核心零组件，我们的产品开发就会受到严重冲击。”
半导体零组件、材料和制造设备短缺，也影响中国晶圆代工厂的业绩。根据中国最大晶圆代工厂中芯国际公布的2020年第4季财报，14纳米和28纳米仅占其营收的5%，远低于第3季的14.6%。
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