一年两投28nm，被老美“特释”的中芯，被呼吁该放弃幻想了！

中芯是否该放弃幻想了呢？

中芯的状态，似乎始终是喜忧参半，为什么这么说呢？比如蒋尚义加入、梁孟松出走事件，还有被美纳入“实体清单”以及获得“成熟许可”，甚至是光刻机即将到位，最近被传出中芯的14nm已经追平台积电，并且计划本月风险试产7nm，看上去中芯似乎是走得挺顺，但难点就在后面。

当中芯拿到“成熟工艺”许可的时候，做了一个决定，就是再次投产28nm领域，这已经不是第一次了，上一次还是在中芯京城项目中这么做的，那么被老美“特释”的中芯为什么这么做呢？而且真正的难点也出现了，不少网友直呼，中芯，该放弃幻想了！

一年两投28nm的中芯

如果问国内谁能扛起中国芯的大旗，相信很多网友会说是中芯。诚然，在制程上，在产能、配置上中芯都算是最好的，前一段时间还被爆出在14nm上追平了台积电。

但是在3月中旬的时候，中芯做了一个决定，将在深圳投资153 亿元用于扩产，重点是在28 纳米及以上的集成电路领域，并希望是能够实现每月约 4 万片 12 寸晶圆的产能。

而在近期中芯公布的最新消息中我们也可以看到，其将拿出280.9 亿元用于本年度的支出，其中大部分资金将会用于成熟工艺的研发，少部分用于先进工艺。

这里可能就会有网友比较疑惑，欧盟、日本都开始进军2nm，台积电量产5nm，为啥中芯偏向于28nm呢？

其实根据半导体的相关报告我们可以看出，28nm左右的成熟工艺占市场有52%的份额，而且更多适用于新能源汽车、5G 网络设备等方面。

其实早在去年的时候，胡伟武就表示过，很多情况下14/28nm的芯片是足够使用的，我们更应该是注重基础，基于国内实情再谈发展。

被老美“特释”的中芯，被呼吁该放弃幻想了！

前面提到与荷兰签订大单，虽说是DUV光刻机，但想要到手也需要很长一段时间。而且老美虽说是“特释”中芯，但是相关的审批进度还是很慢，甚至有知情人吐槽就是一个小小的零件都要美得出口许可，而一般申请还不一定给通过，可想而知中芯想要获得半导体设备有多难。

之前我们说过梁孟松去年就计划将会在今年4月风险试产7nm，但是一般情况下都是需要EUV光刻机才能够实现，但现在很可能是使用DUV光刻机进行多次曝光的方式来获得了，可这成功率和良品率都是没有把握的。

有网友表示我们可以等啊，等到审批通过，但是假如光刻机是一年后到手呢？两年后到手呢？时间是有，但是市场不会等你。当你错过一次大单或是一些行业周期，想要再补上去，难度就大了许多。

不少网友开始呼吁中芯，放弃幻想吧，唯有国产替代才是正道！

虽说我们在一些半导体的环节上比较落后，但也不至于没有基础，此前如果说国产设备没有试过的机会，但是当下全球缺芯，这就给国产设备提供了便利，将会出现“能用则用”的局面，而这样一来，国产设备就有了机会展示，也只有在这种情况下，才能实现更好的突破！

比如国内现在在扩散炉、清洗机方面做得挺好，而且在蚀刻机方面能够做到5nm，这是国内唯一在先进工艺方面的突破，但是相信后面还会有越来越多的进展！

当下的国内半导体至少比一穷二白的时候好很多，那么剩下的，也只有奋起直追了！放弃幻想，靠别人始终是靠不住，而唯有国产替代，才是我们最美的期待！

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