一步一个脚印，国产半导体行业捷报连连，芯片自主可控离我们还有多远？先来看看这段时间以来，国产半导体产业链有哪些突破，首先就是离子注入机，中国电科旗下装备子集团在22日对外宣布，已成功实现离子注入机全谱系产品国产化，可为全球芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案。
离子注入机是芯片制造环节中至关重要的一环，它通过改变芯片内载流子的分布，从而达到所需的电参数和电性能，通过离子注入，不仅可以提高芯片的成品率，还能让芯片更稳定，具有更好的性能。在整个集成电路产业链中，离子注入机占制造设备的10%左右。
第二，中芯国际N+1工艺已进入流片阶段，且与阿斯麦在成熟制程工艺方面恢复了合作，在不久的将来，新购的DUV光刻机将为中芯国际提升产能。中芯国际N+1工艺对标的是台积电7nm工艺，所采用的工艺也是Finfet，如果此次中芯国际流片成功，也就意味着我国已掌握了7nm制程工艺技术。
第三，EUV光源，近日清华大学工程物理系教授唐传祥研究组联合国外科研人员发布了一项重大科研成果。该成果基于SSMB原理，能获得高功率、高重频、窄带宽的相干辐射，波长可覆盖从太赫兹到极紫外（EUV）波段，有望为光子科学研究提供广阔的新机遇。
在光刻机方面，EUV光源是实现先进制程的关键，DUV能够达到7nm制程已是极限。所以要实现7nm以下的制程工艺，EUV光源不可或缺。清华大学此次突破为我国未来实现先进制程工艺，打下了基础。
总之虽然有突破，但是也要看清现实，因为半导体领域涉及面很广泛，从原材料、设计软件、制造工具，工艺等环节需要攻克的难点很多，特别是先进制程这块。这段时间来半导体领域的各项突破就可以说明，只要我们坚持不懈，总有一天会实现自主可控。
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