中国芯片频传好消息，中科院突破关键技术，没光刻机也能造芯片？

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关键技术取得突破

国产芯片发展多年，凭借华为海思、紫光集团、中芯国际、长江存储等多家半导体企业，为国内芯片助力成长。提高国产芯片供应链体系自主化，不过这些半导体企业都是基于传统的硅技术展开研发。

市场上一切的芯片材料，技术和制程等等，都是用硅作为展开的。在一堆沙子中提取高纯度的硅，再把硅制作成晶圆硅片。晶圆制造厂将其加工成芯片，集成电路，最后经过一系列的封装，测试等技术，把加工完成的芯片搭载到电子设备上，流通市场。

这一系列的流程源头都是硅，可是先进硅技术都掌握在国外企业手里，大到光刻机，小到材料，零部件等等，都是对方提供的技术。

这就导致我国乃至全球的芯片产业链，都无法彻底剔除国外技术。但如果除去硅，另辟蹊径重新寻找芯片制造材料，是不是就能重造产业链，完全不含对方技术呢？

比如用石墨烯作为制造芯片的材料，加工成碳基芯片，从理论上看，同等制程性能是传统硅基芯片的十倍。好消息是，中科院突破石墨烯关键技术，成功亮相8英寸石墨烯晶圆。

这无疑是大好消息，意味着全新基于石墨烯研发的碳基芯片，迈出了关键一步。而且最重要的是，对光刻机的依赖或许没有那么强。

没光刻机也能造芯片？

现有的硅基芯片都是通过光刻机制造出来的，如果是生产5nm芯片，更是需要极紫外光（EUV）光刻机才能制造。纳米程度越高的芯片，对光刻机设备的需求就越大。

可是以国产光刻机的水准，距离EUV光刻机的水准还有一段路要走。要想完全国产化，仍需努力前行。国外有了几十年时间，才成功研制出EUV光刻机，如果要把未来几十年的时间都花费在这里，可能会错失良机。

但石墨烯晶圆的成功亮相带来了一丝希望，由于对光刻机没有过多的需求，被外界认为没有光刻机也能造芯片。但从目前芯片市场的本质来看，研讨出脱离光刻机制造芯片的方案，还有待商榷。

可如果碳基芯片能达到理论上同等制程是硅基芯片十倍的性能，或许DUV光刻机造出的芯片，也能取得EUV光刻机造出芯片的效果。而在DUV光刻机上，努力前进是有可能取得进步的。

这同样是关键的征兆信号，不至于面对未来一头雾水，重新看清方向，换道出发不失为良策。

中国芯接连传来好消息

中国芯片历经十几年的发展，并非没有自己的成就，回望2020年至今，中国芯片频传好消息，除了中科院突破关键技术，每一条信息都值得振奋人心。

比如华为海思自研了1GB独显芯片，紫光国芯推出12nm工艺的GDDR6存储控制器和物理接口IP，天数智芯自研了7nm GPGPU训练芯片。还有大族激光自研光刻机小批量出售。以及西湖大学突破“冰刻”三维微纳加工技术等等。

这一连串的好消息，都证明中国芯片正在不断取得进步，而且就算在光刻机领域，中科院也早已经宣布要入局，国产芯片捷报连连，相信未来还会有好消息传来。

总结

世界芯片行业发展了几十年，在技术上有很多值得我们学习的地方。而国产芯片一直在努力朝着自研的方向前进，加强自主核心技术的研发。前有中科院突破石墨烯关键技术，后有华为，紫光以及中芯这样的半导体企业，在加强自主技术的攻关。

种种迹象表明，没有困难是克服不了的，有这些优秀的国产企业在，再大的难题也能迎刃而解。