5nm工艺芯片已经量产,3nm工艺也实现了突破,如今全球顶尖专家正在商讨3nm及以下制程的细节。据报道,关于1nm光刻机已经拥有了最新的进展。
不久前举办的ITF论坛,针对1nm制程,专家给出了清晰的路径规划。据说,1nm光刻机在体积方面会增加不少,因为更加复杂的光刻系统会让设备变得更大,至于价格也会成倍增长。那么谁愿意买就是最大的问题。
去年是7nm的天下,而今年5nm将成为主流。另外,台积电已经启动了3nm的研发和建设,目前正在建设新的晶圆厂,投资额高达195亿美元,3年后量产3nm。
未来台积电还将建设2nm,甚至1nm的晶圆厂。在今年的半导体大会上,台积电再次宣布了一项新计划,将全面冲刺1nm制程工艺。问题是,像3nm制程,光建厂费用就要高达数百亿美元,更不用谈研发费用了。如果不出意外的话,恐怕只有苹果才能用得起。
台积电宣布后,三星就感觉很无奈。因为三星一直将台积电视为竞争对手,希望能够超越台积电,成为全球实力最强的芯片代工巨头。之前,三星首次披露了3nm目标,从时间线来看,与台积电量产3nm的目标保持一致,看来,三星在2030年超越台积电的愿望有可能实现。
如今再回头看,这似乎是不可能的事。当然了,台积电在芯片领域的优秀表现,确实值得国内企业学习。在芯片制造工艺以及光刻机等领域,希望国内企业早日实现国产化,这样才能让国产芯片供应链快速崛起。
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