对于芯片的研发上,最先想到的就是制造芯片的机器,光刻机。如果仅仅是掌握了芯片生产技术,并没有很好的光刻机,对于之后的大量生产,也是没有太大实质性的投入,芯片技术和光刻机的研发技术,二者不可缺一。
对于光刻机的使用,我国一直都在使用ASML公司的光刻机DUV,因为美国的“限制”,ASML只能提供较次的光刻机。对于光刻机的研发,我国同样是“任重而道远”,一个光刻机的小零件,就需要耗费上百万,虽然说现在我国经济发展迅猛,但单单是成本的问题,也是较为棘手的。
ASML突传新消息,谁也没想到会是这样的结果,余承东预言或将成真。ASML其实已经表明了态度,是可以提供光刻机让中国使用,但仅仅是较次的光刻机。不过,对于余承东曾说过:没有提早对芯片领域的研发,是我国企业的一大损失。
现在的华为,都已经在跨领域上,开始研发芯片技术了,前期投入了200亿到上海制造厂家,攻克芯片的研发技术,尽早研发出属于我国的芯片技术,不依赖国外芯片制造。能够制造出属于自己的中国制造。
最大芯片的制造厂家台积电,曾投入了大量的资金研发出5nm工艺技术,也是为了跟上市场研发的步伐,稳住自己的霸主地位。而我国的芯片技术,要对抗台积电压力,还有来自三星不断加快的研发芯片领域上速度。对于国芯来说,这两大巨头将是未来市场上的竞争者。
在芯片的研发技术上,紫光现在已经突破了6nm工艺技术,这样的成就,也给了国芯更大的信心。从芯片到光刻机的研发过程,虽有大量的难关等着我们去解决,但面对困难不退缩,也是一种科技领域研发精神。对此,你对于芯片与光刻机之间,谁会是我国更早突破的技术呢?
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