HOYA和东芝的争夺之战！半导体掩膜光刻设备企业Nuflare是什么样的公司？

文 | 小C君 · 编译 | Sammy

来源 ：电子Device产业新闻

CINNO Research 产业资讯，HOYA和东芝围绕半导体掩膜光刻设备的顶尖企业Nuflare Technology展开了争夺之战。当初，东芝集团旗下的东芝Device & Storage（以下简称TDSC，东芝电子元件及存储装置株式会社）对Nuflare实施股票公开买卖TOB（Take-over Bid，公开收购）,计划收购为子公司，然而HOYA要求暂缓收购。本文在追踪Nuflare的现状的同时，分析其未来的发展趋势。

东芝发布TOB后，HOYA提出反对方案

Nuflare被定位为东芝集团的关联子公司，是东芝旗下的TDSC拥有52.4%股份的子公司，目前TSDC正在对其进行TOB，目的是回购上市股份，以达到全股权收购的目的。

NuFlare主要是由东芝机械与东芝合资成立的半导体先进制程设备，主要产品线是光罩微显影及缺陷检测。 Nuflare原本是于1997年作为生产和销售印刷设备、造纸设备的东芝机械冲压工程设备公司成立，2002年从东芝机械继承了半导体生产设备业务，并开始了事业。 与东芝集团的资本关系始于2002年东芝收购Nuflare的普通股份，后来慢慢提高出资比例，到2012年成为东芝的关联子公司。

东芝和Nuflare除了资本关系以外，在掩膜光刻设备的主要零部件的供给等实际业务方面也有关联，此次通过成为东芝的子公司，预计会获得更高的协同作用，实施TOB。

HOYA以“与以上收购对抗”形式，提出要收购Nuflare。 HOYA于12月13日宣布将以每股12,900日元（约人民币833.34元）进行收购，高出TDSC的TOB价格1,000日元（约人民币64.6元）。 仅限于在TDSC的TOB 失败的情况下实施，并以2020年4月开始TOB为目标。HOYA“曾经多次打探”

HOYA以光学玻璃为基础，如今已经进军电子领域。 HDD方向的玻璃基板处于业界领先地位，此外，在半导体光掩膜方向的基也坐拥业界顶级供应商的宝座。 在半导体生产工艺中，硅晶圆上制做电路时，使用曝光工艺，光掩膜具有图案原版的作用。 而图案原版的主要材料就是HOYA从事的掩膜基板。

通过使用Nuflare从事的掩膜光刻设备在掩膜基板上刻制线路图案，形成光掩膜，因此，HOYA认为在强化以掩膜基板为核心的半导体曝光相关事业之际，收购Nuflare会产生协同效果。 所以HOYA公布了此次的 TOB。 HOYA在此次表示公开收购的文章中提到“2017年4月，认定Nuflare为合作方之一，后来向东芝集团多次打探包括收购股份在内的业务合作的可能性，但是并未达成具体的协议”。

此外，假如TDSC把Nuflare收购为子公司后，针对Nuflare的股份进行交涉也是其中的一个选择项，据说HOYA“希望尽快完成收购”。 由于TDSC已经在实施对Nuflare的TOB，从透明性的观点来看，TDSC应该没有与Nuflare事先达成协议。
东芝机械的动向是关键

TDSC的TOB能否得以成立，持有Nuflare15.8%股份的东芝机械的动向是关键。 如今，东芝机械没有明确表态，东芝集团方面在11月14日公布的文件中提到“我们在11月8日收到了继续进行讨论的联络”。

关于东芝机械，从公司名字来看，容易认为东芝集团的资本占据多数，而实际上东芝集团的出资比例不足2.77%，这是很难反映“集团意向”的情况。 此外，近年来由于诉讼损害了股东利益，所以并没有立即拒绝HOYA提出的高出1,000日元（约人民币64.6元）的方案。 另外，其他媒体也有报道说，原村上基金的子公司南青山不动产在不断地购买东芝机械的股份，完全看不懂东芝机械的方针。近期业绩刷新史上最高纪录

东芝与HOYA争夺的Nuflare到底是什么企业？ 如上文所述，以掩膜光刻设备为主力，也涉及到掩膜检查设备、外延晶体生长设备等。 2018财年（2018年4月～2019年3月）的销售额刷新历史最高，为578亿日元（约人民币34.68亿元），营业利润高达119亿日元（约人民币7.14亿元）。

Nuflare Technology的掩膜光刻设备。（图片出自：电子Device产业新闻）

但是，从中长期的角度来看，对Nuflare的前景还有不确定因素。 最令人担忧的是，被称为新一代掩模绘图设备的“多光束支持”的延迟。 现行的掩模绘图装置一般都是使用电子束的单光束，也就是所谓的“一笔书写”在掩模上形成图案。

但是，半导体生产工艺越来越复杂，在一张掩膜上画的图案越来越多，“一笔书写”会花费很多时间。 在7nm以后，如果是利用逐步导入到量产工程的极紫外光光刻技术的话，其费时的特点更加显著。 与ArF液浸+Multi Patterning 技术相比，曝光次数减少，掩膜上描绘图案增多，普遍认为EUV以后多光束是必须的！IMS、日本电子的Multi Beam（多光束）领先于其他

Nuflare在多光束方面存在落后于人的现象，虽然向主要客户提供了测试的设备，但是存在被要求更改设计的情况，在东芝公布的有关收购的文件中也记载着： “研发比最初的预想延迟了2年”。

在多光束方面，奥地利的IMS Nanofabrication和日本电子的“联合军”处于领先地位，可以说如今获得了压倒性的胜利！ 日本电子的Multi Beam（多光束）光刻设备订单、销售数量都顺利地增长，预计2019财年的订货数量为9台，销售数量为7台。

（图片出自： 电子Device产业新闻） 据预测，在接下来的2-3年中，一定程度上，支持Single Beam（单光束）的设备的需求还会存在，但是对于半导体厂商、对外销售掩膜（Mask）的掩膜厂商的生产线来说，不仅没有必要再增加Single Beam（单光束）光刻设备，反而有出现剩余的可能性。 因此，如果不把支持Multi Beam（多光束）的光刻设备投入到市场的话，就无法在市场上生存。

Nuflare也在积极“反攻”！ 在2019年度第三季度完成支持5nm的Multi Beam（多光束）光刻设备“MBM-100”的同时，也在研发支持3nm的“MBM-2000”。 但是，由于5nm的相关时间缓冲比较少，因此“IMS很可能独占所有份额”（证券分析师）。

假如Nuflare通过3nm得以反攻，也无法避免未来2-3年内的业绩低迷，与东芝对抗、并发布TOB的HOYA的胜算在何处呢？ 难以判断其真实意图。

关于本次事件，很容易将目光投向HOYA和东芝的争夺之战，但是如果分析一下Nuflare现在的立场，对两家公司来说，不一定就一定存在“收购Nuflare的必然性”！
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